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1984年，毕业于安徽师范大学中文系。1987年，获陕西师范大学硕士学位。1999年，获陕西师范大学博士学位。2000年至2002年，在中国人民大学哲学系从事博士后研究。
曾在凤凰卫视“世纪大讲堂”主讲《禅宗哲学象征》，在中央电视台“名家讲谈”主讲《禅宗智慧与现代管理》，在东方卫视主讲《禅的智慧》，在中国教育电视台主讲《禅宗智慧》。
* 《佛教和基督教对话》（合编）（2005年）
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预防原则（Vorsorgeprinzip），又称 审慎原则、预警原则，指凡有活动或政策对公众或环境有不可回复的损害威胁时，不得以缺乏充分的科学证据为由，推迟符合成本效益的预防措施。旨在防止环境恶化，而非回复或减轻灾害。
预防原则最早发展于1970年代德国与瑞典之环境法中的Vorsorgeprinzip之概念。1982年联合国海洋法公约第194条、1992年里约环境与发展宣言、2000年生物多样性公约亦作了相关规范。
预防原则公认的定义，在里约环境与发展宣言第15条。
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抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
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