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黑山（Black Mountain）座落在澳洲首都特区坎培拉境内，澳洲国立大学（ANU）西侧、伯利·格里芬湖（Lake Burley Griffin）北侧。是坎培拉境内的国家公园（自然保护区）之一。

山峰最高点约海平面812公尺。山顶上建有著名的首都地标：电讯塔（Black Mountain Tower；Telstra Tower），塔高192.5公尺，设有瞭望台和景观餐厅，是坎培拉地区的至高点，也是重要的通讯设施。山脚下则设有澳洲国家植物园（Australian National Botanic Gardens）。

另外，除了澳洲国立大学外，如联邦科学与工业研究组织（CSIRO）也在山区设有研究设施和实验室。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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