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* 混合物理化学气相沉积（Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition，HPCVD）：一种气相沉积技术，包含化学分解前驱气体及蒸发固体源两种技术。
* 快速热化学气相沉积（Rapid thermal CVD, RTCVD）：使用加热灯或其他方法快速加热晶圆。只对基底加热，而不是气体或腔壁。可以减少不必要的气相反应，以免产生不必要的粒子。
* 气相外延（Vapor phase epitaxy, VPE）
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弘治十一年（1498年），戊午科乡试中举。正德十二年（1517年）授吏部司务，嘉靖二年（1523年）担任礼部祠祭司署员外郎，参与大礼议，五年（1526年）升礼部主客司郎中。嘉靖八年（1529年），担任广东右参议，分守惠潮。十年因母年八十，乞归养致仕，二十九年七月十六日卒，享年七十四岁。
高祖翁时敬。曾祖翁龄，赠乌程县知县。龄生三子，长子翁经，登景泰甲戌进士，官曲靖知府，为翁磐祖父。父翁士章，赠礼部主客司郎中。母许氏，封太宜人。娶欧阳氏，封宜人，生一子全甫，早卒；继娶牛氏，生子翁辰孙，郡庠生。
* 熊过《明朝列大夫广东布政使司右参议白洞翁公墓志铭》
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