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使用传统的矽半导体器件制造技术,即可在晶圆上形成SiGe。在CMOS制程方面,SiGe制程的成本和矽制程相当,但在异质接面技术方面,SiGe制程的成本比砷化镓制程还要低。近来,使用有机金属气相磊晶 (MOVPE)沉积高纯度的含Ge薄膜、SiGe和应变矽时,会使用只有少量危害的液体来当做替代物,像有机锗化合物前体(如:异丁基锗烷、三氯锗烷、二甲氨基三氯锗烷)。
拥有SiGe制作服务的共有以下几家公司:国际商务机器(IBM)、意法半导体(STMicroelectronics)、台湾积体电路制造股份有限公司(TSMC)、飞思卡尔(Freescale,原本的摩托罗拉半导体部门)、索尼(Sony)、Atmel、Chartered Semiconductor Manufacturing、Micrel、英飞凌(Infineon)、德州仪器(TI)、IHP、Jazz Semiconductor,原本的胜讯(Conexant)。超微半导体(AMD)有意加入IBM的SiGe应变矽技术开发计划,让技术迈入65nm级规模。
2015年七月,IBM公司宣布通过SiGe工艺制成了7 nanometer级晶体管,有望使晶体管的产量上升三倍。
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县道192号(大福路三段)是礁溪龙潭至大福的道路,大致以西南—东北走向蜿蜒经过本地区西北部及北部边界外不远处。由该道路向西南可前往五间、辛子罕、一结南部、大坡龙潭并止于梅洲二路路口,向东北可前往车路头、大福地区北部并止于省道台2线路口。
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乡道宜8线(永美路二段、古亭路、永美路一段)是龙潭至永镇的道路,也是本地区主要的横向道路,大致以西北—东南走向转西向东再转北向南再转西向东经过本地区西部及南部。由该道路向西北可前往土围西南部、抵美、武暖、四结、大陂龙潭并止于乡道宜5线路口,向东可前往十三股北部、三块厝永镇并止于省道台2线路口。
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“梅斯”一名来源于凯尔特人的一支-Médiomatriques,其定都于Divodurum Mediomatricorum(又称“梅迪奥马特里斯”(Médiomatrice)),西罗马帝国灭亡后更名为“梅蒂斯”(Mettis),后逐渐衍变成为“梅斯”。
坐落于摩泽尔河与塞耶河交汇处的梅斯,早在公元前3000年就已出现人类活动。
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