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更新于 2026-10-24

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* 德米特里·普罗托波波夫(1937年10月4日-1946年6月5日)

* 博博占·加富罗夫(1946年6月5日-1956年5月24日)

* 图尔松·乌利贾巴耶夫(1956年5月24日-1961年4月12日)

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* 原子层化学气相气相沉积(Atomic layer CVD,ALCVD):连续沉积不同材料的晶体薄膜层。参见原子层磊晶(原子层沉积)。

* 热丝化学气相沉积(Hot wire CVD,HWCVD):也称做触媒化学气相沉积(Catalytic CVD,Cat-CVD)或热灯丝化学气相沉积(Hot filament CVD,HFCVD)。使用热丝化学分解来源气体。

* 有机金属化学气相沉积(Metalorganic chemical vapor deposition,MOCVD):前驱物使用有机金属的CVD技术。

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