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多晶硅是从硅烷（SiH4）沉积所得到的。使用以下反应：

这种反应通常使用低压化学气相沉积系统（LPCVD），使用单纯的硅烷或用70-80％的氮硅烷作为原料。在温度在600°C至650°C之间，压力为25~150帕斯卡的条件下，沉积速度在每分钟10至20纳米之间。另一种工艺使用氢为还原剂。氢气会降低增长速度，所以温度提高到850甚至1050℃进行补偿。

多晶硅的沉积可以和掺杂同时进行。即把磷，砷或者乙硼烷加入CVD反应腔。乙硼烷的会令增长率增加，但砷化氢和磷化氢会令沉积速度减小。

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636A型为636型的改进型号。第一艘636A型于2003年5月在芜湖造船厂开建，该船安装了20多个测量系统。

最初命名为“海洋二十”号，之后重命名为“竺可桢”号。第二艘636型最初命名为“海洋二十二”号，之后重命名为“钱三强”号。

636及636A型由中国当代科学家命名。

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