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* 辛伟力（Alex San），香港八十年代的作曲人、编曲人及演奏家。
* 罗启锐（Alex, Law），香港导演及编剧。
* 亚历斯·格列（Alex Grey），美国艺术家。
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位于武汉市硚口区崇仁路以西、京汉大道以北、硚口路以东的合围地带。与古田车辆段、在建中的汉口北停车场一并是该线三个停放地铁列车的场所。在轨道交通一号线一期运营时期，硚口停车场完全承担了1号线配属车辆的运营、停放及运用检修等功能。
硚口路停车场下方有物业开发项目，分别开发成为茶楼、餐厅和娱乐城等。武汉地铁集团的总部就位于硚口路停车场西面。
武汉地铁集团总部、轨道交通1号线硚口路站、轨道交通1号线崇仁路站、武汉市第十一中学
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化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
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