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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化
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1901年（日治明治三十四年）11月，全台设置二十厅，该庄隶属于嘉义厅。1903年（明治三十六年）6月，该庄编入「大莆林区」，隶属于嘉义厅。1909年（明治四十二年）10月，合并二十厅为十二厅，大莆林区仍隶属于嘉义厅。1920年（大正九年），废十二厅改设五州二厅，该庄改制为「北势」大字，隶属于台南州嘉义郡大林庄（新制街庄）。1943年10月1日，大林庄升格为大林街。
战后大林街改制为大林镇，隶属于台南县，大字亦改制为里。1950年云、嘉、南分治，大林镇改隶属于嘉义县。
本地区发展较早的聚落为北势仔（北势），在日治期初期的官方地图上已有记载。
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一碘化碲是一种无机化合物，化学式为TeI。已知存在两种形式。它们的结构与碲的其他一卤化物的不同。碲有三个低碘化物，α-TeI、β-TeI和Te2I，以及四碘化碲。
TeI是灰色固体，由碲金属和碘在氢碘酸里的水热合成法生成。接近270 °C时，这个反应会生成呈三斜晶体的α-TeI。当这个化合物被加热至150 °C时，准稳态单斜晶体的β-TeI便会生成。化合物在结构上与Te2I有关系（参见一溴化二碲），但是额外的碘群不会与其他中央Te原子桥连。
所对应的一氯化物和一溴化物是分子化合物，化学式为Te2X2。
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