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王应麟，字仁卿，号玉沙，福建漳州府龙溪县人，民籍，明朝政治人物。

福建乡试第五十九名，万历八年（1580年）庚辰科会试第七十二名，登三甲第二百名进士。初授溧阳县知县，历官南雄府同知、镇江府知府、四川右参政，三十一年（1603年）四月升四川按察使，三十五年六月升右布政使，改江西左布政使，四十一年四月升顺天府府尹，四十三年正月升都察院右副都御史、总理粮储提督军务兼巡抚应天地方，天启元年（1621年）卒于官，赐祭葬。

曾祖王先宗；祖父王质安；父王荣贵。母黄氏。

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三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

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