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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
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让·卡比特（Jean Cabut，1月7日）是一位法国讽刺漫画家，以笔名卡比（Cabu）而知名。2015年1月在查理周刊总部枪击案中死亡。 卡比是查理周刊的一名漫画家，同时也是股东之一。
卡比年轻时在巴黎的École Estienne学校学习艺术，1954年他首次在当地的一家报纸上发表作品。阿尔及利亚战争期间，卡比被迫应征入伍2年，他的才能被陆军杂志所利用。军队服役的经历使卡比变成一个反军国主义者，并且形成了一种略微的无政府主义观点。
1960年，卡比离开了军队，参与创办了切腹杂志(查理周刊的前身)。1970、1980年代，卡比与儿童电视节目合作，成为了一个流行的艺术家。他还一直为查理周刊和鸭鸣报创作政治漫画。
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