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三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在铜的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。
三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
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* 第四骑兵师，由奥托·冯·加尼尔（Otto von Garnier）少将指挥。
* 第九骑兵师，由卡尔-乌尔里希·冯·比洛（Karl-Ulrich von Bülow）少将指挥。
总体来看，德军大约有五万九千八百人及100座火炮。他们受奥托·冯·埃米希将军指挥，埃里希·鲁登道夫则跟随部队作为指挥部的观察者。
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