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TlBr + Br2 + 4H2O -> TlBr3.4H2O
三溴化铊以水合物的形式存在，它是浅黄色针状晶体，易溶于水，在40 °C熔化，但在空气中，30 °C时分解为暗黄色的溴化铊(I,III)，生成水和溴；而在真空中，分解在室温即可分解。它可以形成一系列的溴配合物，如RbTlBr4和Rb3TlBr6。
三溴化铊是强氧化剂，在有机化学和金属有机化学中有所应用。
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耶律隆祐，又作隆裕，契丹名高七、胡都堇。为契丹（辽朝）皇子，辽景宗耶律贤和皇后萧绰第三子。
《辽史》未载生年，依《续资治通鉴长编》推算在979年。耶律隆祐少年性格沉毅，非常喜欢道士。干亨年间，封为郑王。
辽圣宗统和十六年（998年）十二月，改封吴国王。十九年（1001年）十月，改封楚国王。二十一年（1003年）十月，任西南面招讨使。二十八年（1010年）十月，辽圣宗亲征王氏高丽，他留守京城。次年（1011年）正月，辽圣宗回师，他到来远城迎接。三月，权知北院枢密使。开泰元年（1012年）三月，改封齐国王，留守东京辽阳府。修建了数百间道观。八月，耶律隆祐去世。赠守太师，谥号仁孝。辽兴宗重熙年间，改谥号孝靖。
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* 气溶胶辅助气相沉积（Aerosol assisted CVD，AACVD）：使用液体/气体的气溶胶的前驱物成长在基底上，成长速非常快。此种技术适合使用非挥发的前驱物。
* 直接液体注入化学气相沉积（Direct liquid injection CVD，DLICVD）：使用液体（液体或固体溶解在合适的溶液中）形式的前驱物。液相溶液被注入到蒸发腔里变成注入物。接着前驱物经由传统的CVD技术沉积在基底上。此技术适合使用液体或固体的前驱物。此技术可达到很多的成长速率。
* 电浆技术（可参考Plasma processing）
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