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* 袁枚（1716年—1798年），浙江人，宦旅江苏金陵。

* 蒋士铨（1725年—1785年），江西人。江西古称江右，故有此称。

* 赵翼（1727年—1814年），江苏常熟府阳湖县人。

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* 弗拉基米尔·莫诺马赫大公逝世，基辅大公的公位由其长子姆斯季斯拉夫·弗拉基米罗维奇继承，基辅罗斯在内忧外患侵扰下，逐渐衰弱。

* 尤里·多尔戈鲁基决定将他统治的大公国的首都从罗斯托夫迁往苏兹达尔。

* 11月13日——陆游，南宋诗人（逝世1210年，85岁）

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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。

在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。

* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化

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