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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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* 胡国烽先生（不早于1988年-1992年，末任校长，后改任上午校及全日制首任校长）

* 胡国烽先生（1997年-2003年，全日制第一任校长，由石篱宣道小学过渡）

* 张景苏先生（2003年-2009年，全日制第二任校长）

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华台吉率领右翼巴苏特卫新，是后世的鄂尔多斯右翼前旗始祖。驻牧于榆林以西边外（今内蒙古自治区乌审旗一带）与花马池一带。

* 打儿汗把都儿台吉（鄂勒哲伊勒都齐达尔罕巴图尔）

清代的伊克昭盟盟长喇什色楞、巴达尔呼、察克都尔色楞是他的后裔。

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