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在化学工业里乙烷主要用来通过蒸汽裂解生产乙烯。与蒸汽混合被加到摄氏900度或以上的高温时重的碳氢化合物裂解成轻的碳氢化合物，烷烃成为烯烃。相对于其它比较重的原材料而言乙烷在蒸汽裂解过程中相当大的部分成为乙烯，而比它重的化合物则会产生许多混合物，其中包括许多重的烯烃如丙烯、丁二烯以及芳香烃，降低乙烯的成分。

在实验室里也有把乙烷作为其它化学产品的原材料的研究。长时期氯化乙烷的氧化似乎比乙烯氯化用来生产氯乙烯更经济。许多这个反应的过程被报专利。但是由于这个反应的选择性差而且反应条件腐蚀性高因此至今为止没有经济使用。只有英力士在德国威廉港有一个每年一千吨的实验工厂。

沙特阿拉伯基础工业宣称将在延布建造一座每年三万吨的使用氧化乙烷生产乙酸的工厂。这个工厂使用这个过程的经济性主要是依靠使用附近的沙特阿拉伯油田的乙烷达到的，与世界其它地区使用的甲醇碳化它可能无法竞争。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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