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这次失败标志著Braddock Expedition的结束，英军曾希望通过这次远征夺取杜肯堡并获得对战略要地俄亥俄州的控制权。
这场战役以军官极高的伤亡率著称，双方指挥官都在因战斗而死，英军86位指挥官中有26人阵亡、37人受伤。Edward Braddock在撤退中伤重而死，他在死前要求乔治·华盛顿监督他的葬礼。
这场战斗是个毁灭性的失败，被认为是英国殖民历史上最灾难性的一场战役。即使有著压倒性的力量，英军的Braddock Expedition依然以惨败告终。这也让英国当局明白击败北美法军所需的巨量兵力。
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* 1957年（昭和32年）1月25日 - 开设为日本国有铁道之车站。客运站。
* 1987年（昭和62年）4月1日 - 因国铁分割民营化，本站成为北海道旅客铁道的车站。
* 1988年（昭和63年）2月1日 - 松前线停运，本站也成为废站。
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20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
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