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蔡潮，字巨源，号霞山，浙江台州府临海县人，明朝政治人物。

浙江乡试第五名举人。弘治十八年（1505年），登乙丑科会试第十一名，二甲第五十名进士。考选庶吉士，正德二年（1507年）十月授兵科给事中，五年二月升本科右，六年二月出为湖广按察司佥事，十年五月升贵州布政司右参议，十四年六月因香炉山苗贼构乱，蔡潮轻信间谍，擅调官军，以致覆军杀将，被逮问治罪。十六年十一月苗贼平，赎罪还职。嘉靖元年（1522年）三月升福建右参政，六年正月升河南右布政使，乞休归。卒年八十三。著有《霞山集》十卷。

曾祖父蔡明善；祖父蔡廷贵；父蔡□，□。母杜氏。永感下。

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原子层沉积（英文：Atomic layer deposition）是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积（化学气相沉积）有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积的主要反应物有两种化学物质，通常被称作前驱物。前驱产物和材料表面发生连续的，自限性的反应。薄膜通过分别和不同的前驱产物进行反应缓慢沉积。原子层沉积是关键的半导体设备装配方法，也可以成为一些纳米材料合成方法中的一环。

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