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通过上述直拉工艺制备的单晶硅是制造大积体电路的基础材料，被用于计算机、电视机、移动电话和其他各种电子设备中。
使用直拉法工艺制备单晶硅时，常用石英（主要成分为二氧化硅）坩埚作为器皿。这样做的一个不可避免的结果，就是器皿本身因为高温加热，将发生热分解，导致熔融状态硅中混入氧，其浓度的典型数量级为1018cm-3。氧杂质将带来一些好处。严格的退火工艺可以使氧沉淀下来。这些氧可以俘获半导体材料中不必要的过渡金属。除此之外，氧杂质还能够改善硅晶圆的机械强度，因为它能够固定制备流程中被引入的位错。1990年代，高浓度氧被发现能够在硅材料粒子探测器（例如欧洲核子研究组织中的大型强子对撞机项目）中用于辐射加固。因此，用这样的硅制成的辐射探测器，是将来进行高能粒子实验的理想设备。在后期的退火过程中，硅中的氧杂质也能俘获其他不必要的杂质。
然而，氧杂质能够在光照环境中与硼发生反应，这与太阳能电池的情况类似。这将形成电活跃的硼-氧络合物。
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深湾9号 （Marinella）是位于香港岛南区黄竹坑惠福道9号，即香港仔内地段451号的豪华住宅，处于鸭脷洲豪宅南湾的对岸，2007年10月15日由嘉华、信置和南丰联合以57.1亿元夺得该地盘，深湾9号前临深湾及香港仔南避风塘，位处单幢住宅珍宝阁侧，背面为东华三院复康中心，于2012年11月底入伙。
项目地盘面积68,922方呎，提供6座，共411伙，单位面积745至5,173平方呎，间隔一房至四房，逾80%为三房双套或四房三套房大宅，25至30%为特色户，共涉约100伙，包括相连、复式户及天际大宅与别墅。
深湾9号是全港首个取得BEAM Plus白金级荣誉的项目，预计整个项目每年将可节省约463,521度电和减少二氧化碳排放量达385吨，相等于在港岛南区栽种了16,772棵树。
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2、二氧化锰或水锰矿先焙烧成三氧化二锰，再在甲烷存在下，于250～500°C进一步被还原为四氧化三锰。
四氧化三锰主要用于电子工业，用作软磁铁氧体的生产原料、电子计算机中存储信息的磁芯、磁盘和磁带、电话用变压器和高品质电感器、电视回扫变压器、磁记录用磁头、电感器、磁放大器、饱和电感器、天线棒等。此外也用作涂料和油漆的色料。
四氧化三锰可用作很多反应的催化剂，例如甲烷和一氧化碳的氧化反应、一氧化氮的分解反应、硝基苯的还原反应以及有机物的催化燃烧等。
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