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更新于 2026-10-21

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* 10月22日,薄扶林道军车翻侧,2死27伤。

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* 常压化学气相沉积(Atmospheric Pressure CVD,APCVD):在常压环境下的CVD制程。

* 低压化学气相沉积(Low-pressure CVD,LPCVD):在低压环境下的CVD制程。降低压力可以减少不必要的气相反应,以增加晶圆上薄膜的一致性。大部份现今的CVD制程都是使用LPCVD或UHVCVD。

* 超高真空化学气相沉积(Ultrahigh vacuum CVD,UHVCVD:在非常低压环境下的CVD制程。大多低于10-6 Pa (约为10-8 torr)。注:在其他领域,高真空和ultra-high vacuum大都是指同样的真空度,约10-7 Pa。

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