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王胤懋（1644年），字有怀，北直隶顺天府霸县人，明朝政治人物。
王胤懋个性忠孝，侍奉继母如生母，母亲逝世时他自京归家，跣足徒步哭声不绝；天启四年（1624年）中甲子科举人，崇祯四年（1631年）成进士，获授户部主事，管理九门税务以廉介知名，升任太原知府，改任山西宁武兵备道副使。李自成攻陷太原，派使节游说他投降，他斩杀对方并和总兵官周遇吉登城固守，用砲杀不少贼人，城陷后自缢而死，妾杨氏也投井自杀，清朝乾隆四十一年（1776年）赐谥烈愍，墓于霸县城东二里王铁脸庄北。
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在直流溅射中，在靶和待涂覆的基板之间施加几百伏的直流电压，因此它也被称为直流电压溅射。
靶形成负电极，基板形成带正电电极。通过使用（例如，作为稀有气体的原子碰撞电离氩气）形成在一个气体空间的等离子体（氩低压等离子体），带负电荷的电子和带正电荷气体离子诸如Ar的组件，或通过在基片的方向上施加的直流电压目标。它在目标上遇到永久的正离子流; 因此名称叫直流溅射，直流或直流溅射。在与目标颗粒撞击时，通过动量传递从目标喷射粒子，该动量传递在基板方向上远离目标移动并在那里作为薄层沉积（沉积）。
该方法的主要缺点是它只能用于导电靶材料。对于电绝缘材料，将通过目标和基板的新电荷载体的恒定供应来充电，因此补偿直流电压场并阻碍溅射过程，因为随后的离子将被电击穿。另外，可实现的溅射速率以及因此涂覆速率相对较低，因为在所使用的低压等离子体中仅形成少量溅射气体离子。
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