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本地区发展较早的聚落有顶湖、公华坑、中坑、风尾坑、社庄（枫树坑）、枫树脚等，在日治期初期的官方地图上已有记载。

市道105号（忠义路二段～一段）是八里至龟山的道路，其南侧端点位于本地区南部省道台1线路口。由此向北北东转北再转北北西蜿蜒而行，出境经下湖地区东部后再入境经顶湖聚落后转向北出境，至大湖转东北可前往林口、八里并止于省道台15线路口。

区道桃11线（顶湖路、顶湖一街、忠义路二段351巷、新兴街241巷；成功路三段）是西势湖至桃园的道路，大致先以南南东—北北西走向转东北东—西南西走向经过本地区东北部凸出部分的中部及北部西侧边界，再以东北—西南走向转纵向蜿蜒经过本地区西北部边界地带。由该道路东段向南南东蜿蜒而行可前往旧路坑中部并止于区道桃7线路口；由西段向南蜿蜒出境后可经大桧溪、大桧溪地区南部前往桃园市中心并止于市道110号路口。东段、西段间则行经下湖地区北部边界地带。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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研究显示在非运动员群体，身高体重指数（BMI）增加与罹患足底筋膜炎的关系密切；然而，在运动员群体，却没有这种关联。跟腱紧绷与穿著不合脚的鞋子亦被视为重要的危险因子之一。

目前对造成足底筋膜炎的原因仍知之甚少，但公认有几个可能的肇因。足底筋膜是厚实的结缔组织形成的纤维带，位置是从内侧结节与Calcaneus的前部开始，沿脚底延伸至脚趾底部，具有支撑足弓的功能。

以往曾认为足底筋膜炎是足底筋膜的发炎反应，不过近期研究观察到的显微组织变化，不是发炎反应的结果，而是足底筋膜的非发炎性结构破坏。

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