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更新于 2026-10-27

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脉冲雷射沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲雷射烧蚀(pulsed laser ablation,PLA)为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲雷射于真空腔体中对靶材进行轰击,由于雷射能量极强,会将靶材汽化形成电浆蕈状团(plasma plume),并沉淀于基板上形成薄膜。

于镀膜可于高真空、超高真空或通入工作气体(如欲沉积氧化物薄膜,通常会通入氧气作为其工作气体)的环境下进行。

于脉冲雷射沉积的过程中,雷射的能量被靶材吸收之后,能量首先激发靶材内部的电子跃迁,之后再转成热能等使靶材汽化形成电浆态,于电浆云中,包含分子、原子、电子、离子、微粒、融球体等物质。

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1984年在清华大学水利工程系毕业,1986年获同校力学与河流动力学专业硕士学位,1990年获东京大学海岸工程专业博士学位。

1993年至2021年,先后在长崎大学土木工程系、东京大学土木工程系、上海交通大学工程力学系、清华大学水利水电工程系任教。

2021年后,赴南方科技大学任教,并任副教务长、教学工作部部长、讲席教授。

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