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1948年密诺斯A微型相机投产。机身由里加密诺斯不锈钢外壳改为表面经过氧化处理的铝金属外壳。镜头特聘原恩斯特·莱兹光学公厂光学设计家阿瑟·塞伯特设计，先是五片式，后改为四片三组天塞式透镜，15mm/f3.5，整单元对焦，像场特意略微弯曲以提高解像力，名为康普兰（COMPLAN）透镜。随后察普又从新设计了密诺斯放大机I型、II型和新的密诺斯日光底片冲洗罐。
1950年察普与合伙人意见不合，离密诺斯厂，移居瑞士。
1990年察普从新为密诺斯厂设计密诺斯T8微型望远镜.
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这种反应通常使用低压化学气相沉积系统（LPCVD），使用单纯的硅烷或用70-80％的氮硅烷作为原料。在温度在600°C至650°C之间，压力为25~150帕斯卡的条件下，沉积速度在每分钟10至20纳米之间。另一种工艺使用氢为还原剂。氢气会降低增长速度，所以温度提高到850甚至1050℃进行补偿。
多晶硅的沉积可以和掺杂同时进行。即把磷，砷或者乙硼烷加入CVD反应腔。乙硼烷的会令增长率增加，但砷化氢和磷化氢会令沉积速度减小。
使用以下反应：SiH4 + 4 N2O → SiO2 + 2 H2O + 4 N2.
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