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原子层沉积（英文：Atomic layer deposition）是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积（化学气相沉积）有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积的主要反应物有两种化学物质，通常被称作前驱物。前驱产物和材料表面发生连续的，自限性的反应。薄膜通过分别和不同的前驱产物进行反应缓慢沉积。原子层沉积是关键的半导体设备装配方法，也可以成为一些纳米材料合成方法中的一环。
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* 1952年4月1日：旭村改制为旭町。（19町6村）
* 1952年7月1日：小铃谷村改制为小铃谷町。（20町5村）
* 1953年1月1日：阿久比村改制为阿久比町。（21町4村）
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* 第二批：2011年12月26日公布，共10处（其中1处已除名）
下表底色为浅蓝色者已升格为其他级别文物保护单位，底色为灰色者已除名。
第一批列表信息主要参考2015年“李沧区各级文物保护单位”表，因2002年原文件难以找寻，该表信息可能与原文件信息有出入。排列顺序参考《李沧区志（1994-2004）》。
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