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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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* 大学城片区（东至南方科技大学，南至学苑大道、留仙大道，西至平山一路，丽山路、西丽湖路，北至动物园、丽水路、学苑大道、深圳大学西丽校区、南方科技大学，面积4.48平方公里）
* 石壁龙片区（东至沙河西路，南至白芒收费站，西至二级水源保护区，北至南山区边界线，面积2.24平方公里）
* 东、北至深惠边界，南至田头山，西至高压走廊及出口加工区，面积51.6平方公里
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91n.VIP在线ipa常见问题汇总
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张子仁，字安甫，号澄斋，直隶常州府无锡县人，民籍，明朝政治人物。
应天府乡试第五十一名举人。嘉靖三十八年（1559年）中式己未科会试第八十五名，二甲第七十一名进士。历官湖广按察司佥事，隆庆三年（1569年）七月升四川布政司右参议，万历二年（1574年）十一月降为山东佥事，三年五月调任浙江，兵备嘉湖，升本省右参议，八年正月升广西副使，十年二月改补浙江副使，十三年六月升贵州参政。
《万历野获编》记载张子仁任职浙江时，秉公惩治前吏部尚书吴鹏舍人不法之事。
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