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《江南园林志》是一部由中国建筑学家童寯撰写的书籍，介绍了（苏州）、杭（杭州）、沪（上海）、宁（南京）一带的中国古典园林。童寯在抗日战争前访问了大量的江南著名园林，进行实地考察和测绘摄影。此书汇聚了这些成果。1937年，书籍完成编写。原计划由北京中国营造学社出版，但因抗日战争未能实现。1963年，中国工业出版社出版了该书籍。1984年，中国建筑工业出版社再版了该志。再版时，增收《随园考》一文，补充图片，现收图片共340多幅。

《江南园林志》是中国最早采用现代方法进行测绘、摄影的古园专著，具有极高的学术、文化价值。

《江南园林志》共分为文字和图片两部分。造园、假山、沿革、现状和杂识均为文字部分，介绍了中国造园的传统特色和一般原则、假山艺术、江南各地著名园林的沿革、现状、艺术特点并作出了点评。再版时，增收《随园考》一文，补充图片，现藏图片340余幅，但部分图片原底便不清晰，而且据说照片遭过水渍，呈现效果不佳。书中还画有各园各林的平面图。

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泛美航空214号班机空难于1963年12月8日在该镇附近上空发生。

截至2000年的人口普查，全镇共有11893居民，4446户和2898个家庭。人口密度是1480.5每平方英里(571.8/km²)。该镇4743个住房单位平均密度为228.1个每平方公里(590.4/km²)。全镇人口85.85%是白种人，9.64%是非洲裔美国人，0.32%是美国土著，1.17%是亚裔，0.04%是太平洋岛民，0.78%来自其他种族，还有2.20%是混血。西班牙裔和拉丁美洲裔分别占总人口的2.97%。

全镇4446户的37.2%有18岁以下的孩子和他们居住，41.7%户是已经结婚的，18.3%户已婚丧夫的家庭，还有34.8%户是非家庭。4446户的27.4%由个人组成，8.3%户居住着65岁及以上的独居老人。平均每户有2.55人，每个家庭3.13人。

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使用传统的矽半导体器件制造技术，即可在晶圆上形成SiGe。在CMOS制程方面，SiGe制程的成本和矽制程相当，但在异质接面技术方面，SiGe制程的成本比砷化镓制程还要低。近来，使用有机金属气相磊晶（MOVPE）沉积高纯度的含Ge薄膜、SiGe和应变矽时，会使用只有少量危害的液体来当做替代物，像有机锗化合物前体（如：异丁基锗烷、三氯锗烷、二甲氨基三氯锗烷）。

拥有SiGe制作服务的共有以下几家公司：国际商务机器（IBM）、意法半导体（STMicroelectronics）、台湾积体电路制造股份有限公司（TSMC）、飞思卡尔（Freescale，原本的摩托罗拉半导体部门）、索尼（Sony）、Atmel、Chartered Semiconductor Manufacturing、Micrel、英飞凌（Infineon）、德州仪器（TI）、IHP、Jazz Semiconductor，原本的胜讯（Conexant）。超微半导体（AMD）有意加入IBM的SiGe应变矽技术开发计划，让技术迈入65nm级规模。

2015年七月，IBM公司宣布通过SiGe工艺制成了7 nanometer级晶体管，有望使晶体管的产量上升三倍。

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