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阿末安赞（Ahmad Amzad Hashim；1月15日），马来西亚政治人物，伊斯兰党籍，现任瓜拉登嘉楼国会议员。曾经为马来西亚科学、工艺及革新部副部长。

2020年3月10日，瓜拉登嘉楼国会议员阿末安赞出任马来西亚科学、工艺及革新部副部长。2022年11月8日，阿末安赞呼吁华社在第15届马来西亚大选继续支持他，让他可以为瓜拉登嘉楼带来更多发展。2022年马来西亚大选，阿末安赞获得6万3千016张票，以4万零907张多数票胜选，击败另3名候选人。

* Federal Territory (Malaysia)

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王羲民，南直隶常州府江阴县人，军籍，明朝政治人物。

万历二十八年（1600年）庚子科应天乡试举人，二十九年（1601年）辛丑科进士，授平湖县知县，曾在当湖修建「弄珠楼」，云间董其昌飞白书额。。

父王廷宾，字明扬，少为诸生，食贫，教授里中。万历十年魁应天，安贫教授如故。谒选为德安令，县当江右孔道，地瘠民贫，廷宾倍为节省，宽刑息讼，以俭约先，期年感脾疾乞归，杜门读书，绝不知有造请营求事，教子羲民为进士，言行群推为古人。

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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