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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。

在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。

* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化

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本省素有"钢铁大省"之称,省内既有鞍钢、本钢等钢铁大厂,又有遍地开花的中小钢厂。

2004年9月东北三家企业跨地域重组,东北特钢集团正式挂牌成立,

完成现价工业总产值97亿元，同比增长13.5%，占规模以上工业总产值的比重为1.6%，实现销售收入82亿元，比去年同期增长12.83%。煤产量5870万吨，列全国第7位。(2003年)

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