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更新于 2026-10-05

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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处(见上图),但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单,而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上,被称作终点检测,通常有电机电流终点检测、光学终点检测。

在抛光工艺过程中,磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污,清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质,使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。

* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化

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是由Eden Games开发,H2 Interactive发行,并在任天堂Switch平台上发售的竞速游戏。它于2018年12月3日在北美,2018年12月13日在日本和2019年1月16日在香港发行。

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